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    椭偏仪应用
光谱椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构特性的光学测量设备。可测的样品包括大块材料、薄膜以及在平面基底上生长或沉积的多层结构。多层固体、液体、与固体相邻的液体以及与固体接触的气相等离子体的特性等都可以用这一技术来探测。由于与样品非接触,对样品没有破坏并且不需要真空,使得椭偏仪成为一种极具吸引力的探测设备。 
     许多材料的特性都可以用椭偏仪来探测。最常用的是用来测量薄膜的厚度。还可以用来探测薄膜或大块材料的光学常数。同时,还能够测量其他材料的属性,包括表面和界面的粗糙度、结晶度、金属和杂质浓度、光学各向异性以及其他影响材料光学常数的特性。 
椭偏仪通常应用于有薄膜存在的地方。其应用包括光学镀膜和保护膜、聚合物、光刻材料、平面平板显示、计算机读写头以及半导体集成电路制造的研究开发。另外,在生物、医药、化学、电化学及基础材料研究等方面也有应用。
                      
  基本应用:单、多薄膜折射率及膜厚测量,块才的折射率测量;相位延迟测量
  扩展应用:表面粗糙,界面混合、组分比、结晶度、折射率梯度分布、光学各项异性、带隙研究…
  应用领域:半导体、光伏产业、平板显示、存储、生物、医药、化学、电化学、光学镀膜和保护膜、减反膜、透明导电膜、聚合物膜、自组装膜、光刻材料…
  特点: 非接触测量;小于1nm的膜也能被准确测量

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